特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-229715	基板処理装置及び基板処理方法	2014年12月 8日
特開 2014-229565	プラズマ処理装置及びフィルタユニット	2014年12月 8日
特開 2014-229787	接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年12月 8日
特開 2014-229857	トレンチを充填する方法及び処理装置	2014年12月 8日
特開 2014-229861	回転可能状態検出装置及び回転可能状態検出方法、並びにこれを用いた基板処理装置及び基板処理方法	2014年12月 8日
特開 2014-225629	エッチング方法	2014年12月 4日
特開 2014-225501	プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置	2014年12月 4日
特開 2014-225514	剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年12月 4日
特開 2014-225707	基板処理装置	2014年12月 4日
特表 2014-532111	電界によりパターン及び構造形成を制御する方法及びデバイス	2014年12月 4日	共同出願
特開 2014-225549	接合方法、接合装置および接合システム	2014年12月 4日
特開 2014-225505	プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法	2014年12月 4日
特開 2014-222777	アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置	2014年11月27日
特開 2014-222761	基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体	2014年11月27日
特開 2014-222660	プラズマ処理装置	2014年11月27日

685 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-229715 2014-229565 2014-229787 2014-229857 2014-229861 2014-225629 2014-225501 2014-225514 2014-225707 2014-532111 2014-225549 2014-225505 2014-222777 2014-222761 2014-222660

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数