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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-233907 液処理装置 2011年11月17日
特開 2011-233788 基板処理装置及び基板処理システム 2011年11月17日
特開 2011-233789 処理液供給機構 2011年11月17日
特開 2011-233758 基板処理方法 2011年11月17日
特開 2011-233930 基板の処理装置 2011年11月17日
特開 2011-230051 レジスト塗布装置、これを備える塗布現像システム、およびレジスト塗布方法 2011年11月17日
特開 2011-233841 半導体製造装置用のガス供給装置 2011年11月17日
特開 2011-226786 接触構造体および接触構造体の製造方法 2011年11月10日
特開 2011-228694 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2011年11月10日
特開 2011-228711 半導体集積回路チップを分離および搬送する方法 2011年11月10日
再表 2009-150870 半導体装置の製造方法 2011年11月10日
特開 2011-222965 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 2011年11月 4日
特開 2011-222931 載置台構造及び処理装置 2011年11月 4日
特開 2011-222697 基板処理装置 2011年11月 4日
特開 2011-222696 基板処理装置 2011年11月 4日

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