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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

(ランキング更新日:2020年7月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-222965 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 2011年11月 4日
特開 2011-221006 ウェハ型温度検知センサおよびその製造方法 2011年11月 4日
特開 2011-222697 基板処理装置 2011年11月 4日
特開 2011-222653 基板保持具、縦型熱処理装置および熱処理方法 2011年11月 4日
特開 2011-222676 基板処理装置 2011年11月 4日
特開 2011-222931 載置台構造及び処理装置 2011年11月 4日
特開 2011-216593 プラズマ窒化処理方法 2011年10月27日
特開 2011-216867 薄膜の形成方法 2011年10月27日
特開 2011-216617 パターン形成方法 2011年10月27日
特開 2011-215069 プローブ 2011年10月27日
再表 2009-147871 流体加熱器、その製造方法、流体加熱器を備えた基板処理装置および基板処理方法 2011年10月27日
特開 2011-216644 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2011年10月27日
特開 2011-216862 成膜方法及び成膜装置 2011年10月27日
特開 2011-216817 マスクパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 2011年10月27日
特開 2011-216844 成膜装置、成膜方法、回転数の最適化方法及び記憶媒体 2011年10月27日

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