特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年5月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-216500	接合装置、接合システムおよび接合方法	2014年11月17日
特開 2014-215038	カンチレバー、製造方法、検査装置及び検査方法	2014年11月17日
特開 2014-216535	エッチング方法	2014年11月17日
特開 2014-212331	縦型熱処理装置	2014年11月13日
特開 2014-212344	基板処理装置	2014年11月13日
特開 2014-212310	半導体デバイスの製造方法及び製造装置	2014年11月13日
特開 2014-212253	基板洗浄方法及び基板洗浄装置	2014年11月13日	共同出願
特開 2014-209558	シリコン酸化膜の形成方法、及び、シリコン酸化膜の形成装置	2014年11月 6日
特開 2014-209514	パターンを形成する方法	2014年11月 6日
特開 2014-209552	遷移金属を含む膜をエッチングする方法	2014年11月 6日	共同出願
特開 2014-209270	半導体装置の製造方法	2014年11月 6日
特開 2014-209536	基板検査装置及び基板温度調整方法	2014年11月 6日
特開 2014-209515	エッチング方法	2014年11月 6日
特開 2014-207339	焼成装置及び焼成方法	2014年10月30日	共同出願
特開 2014-207320	液処理装置	2014年10月30日

685 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-216500 2014-215038 2014-216535 2014-212331 2014-212344 2014-212310 2014-212253 2014-209558 2014-209514 2014-209552 2014-209270 2014-209536 2014-209515 2014-207339 2014-207320

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数