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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-215617 パターンのつぶれを低減するための組成物及び方法 2011年10月27日
特開 2011-211241 プラズマ処理装置の制御方法 2011年10月20日
特開 2011-211218 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体 2011年10月20日
特開 2011-211067 基板処理装置及びそれに用いられる基板離脱装置 2011年10月20日
特開 2011-206752 フィルタ装置 2011年10月20日 共同出願
特開 2011-211197 簡略化されたミクロブリッジ形成及び粗さ解析 2011年10月20日
特開 2011-210853 消耗量測定方法 2011年10月20日
特開 2011-210958 プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 2011年10月20日
特開 2011-211163 縦型熱処理装置およびその冷却方法 2011年10月20日
特開 2011-209025 粒子検出方法及び粒子検出装置 2011年10月20日
特開 2011-211166 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2011年10月20日
特開 2011-210757 処理システム及び搬送機構の冷却方法 2011年10月20日
特開 2011-210872 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 2011年10月20日
特開 2011-204763 基板処理装置用の多孔板の製造方法及び多孔板 2011年10月13日
特開 2011-205019 ウエハチャックの傾き補正方法及びプローブ装置 2011年10月13日

621 件中 76-90 件を表示

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2011-215617 2011-211241 2011-211218 2011-211067 2011-206752 2011-211197 2011-210853 2011-210958 2011-211163 2011-209025 2011-211166 2011-210757 2011-210872 2011-204763 2011-205019

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