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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-215617 | パターンのつぶれを低減するための組成物及び方法 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-210853 | 消耗量測定方法 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-209025 | 粒子検出方法及び粒子検出装置 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-210958 | プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-206752 | フィルタ装置 | 2011年10月20日 | 共同出願 |
| 特開 2011-211241 | プラズマ処理装置の制御方法 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-211067 | 基板処理装置及びそれに用いられる基板離脱装置 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-211166 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-211197 | 簡略化されたミクロブリッジ形成及び粗さ解析 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-211163 | 縦型熱処理装置およびその冷却方法 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-211218 | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-210872 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-210757 | 処理システム及び搬送機構の冷却方法 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-204763 | 基板処理装置用の多孔板の製造方法及び多孔板 | 2011年10月13日 | |
| 特開 2011-204812 | 複数温度領域分割制御構造体 | 2011年10月13日 |
621 件中 76-90 件を表示
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2011-215617 2011-210853 2011-209025 2011-210958 2011-206752 2011-211241 2011-211067 2011-211166 2011-211197 2011-211163 2011-211218 2011-210872 2011-210757 2011-204763 2011-204812
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