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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2012-216636	基板洗浄装置及び真空処理システム	2012年11月 8日	共同出願
特開 2012-216614	基板処理装置	2012年11月 8日
特開 2012-216633	プラズマ窒化処理方法、プラズマ窒化処理装置および半導体装置の製造方法	2012年11月 8日
特開 2012-216631	プラズマ窒化処理方法	2012年11月 8日
特開 2012-216632	プラズマ処理方法、及び素子分離方法	2012年11月 8日
特開 2012-216639	プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体	2012年11月 8日
特開 2012-216629	プラズマ処理装置におけるマイクロ波の実効パワーのずれ量検出方法及びそのプラズマ処理装置	2012年11月 8日
特開 2012-216630	コンディショニング方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体及び基板処理装置	2012年11月 8日
特開 2012-216752	ロードロックモジュール、ウエハ加工処理システム及びウエハの加工処理方法	2012年11月 8日
特開 2012-216608	基板処理方法	2012年11月 8日
特開 2012-216607	天井電極板及び基板処理載置	2012年11月 8日
特開 2012-216667	プラズマ処理方法	2012年11月 8日
特開 2012-212873	電極製造装置、電極製造方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2012年11月 1日	共同出願
特開 2012-212819	縦型バッチ式成膜装置	2012年11月 1日
特開 2012-212746	基板搬送装置及び基板搬送方法	2012年11月 1日

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2012-216636 2012-216614 2012-216633 2012-216631 2012-216632 2012-216639 2012-216629 2012-216630 2012-216752 2012-216608 2012-216607 2012-216667 2012-212873 2012-212819 2012-212746

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