特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第62位　621件（2010年：第57位　692件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第41位　739件（2010年：第39位　580件）

（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-199256	基板処理方法、この基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び差圧式流量計の異常検出方法	2011年10月 6日
特開 2011-199140	駆動装置及び接合装置	2011年10月 6日
特開 2011-199139	基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2011年10月 6日
特開 2011-198838	基板脱着方法	2011年10月 6日
特開 2011-195907	マスク保持装置及び薄膜形成装置	2011年10月 6日
特開 2011-193014	塗布、現像装置	2011年 9月29日
特開 2011-192945	成膜装置及び成膜方法	2011年 9月29日
特開 2011-192661	載置台構造、成膜装置及び原料回収方法	2011年 9月29日
特開 2011-190490	洗浄方法及び処理装置	2011年 9月29日
特開 2011-190519	成膜装置	2011年 9月29日
特開 2011-192702	縦型熱処理装置および圧力検知システムと温度センサの組合体	2011年 9月29日
特開 2011-192931	半導体製造システム	2011年 9月29日
特開 2011-192969	現像処理装置及び現像処理方法	2011年 9月29日
特開 2011-193012	プラズマ処理装置	2011年 9月29日
特開 2011-191113	温度測定用プローブ、温度測定システム及びこれを用いた温度測定方法	2011年 9月29日

621 件中 106-120 件を表示

... 8

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-199256 2011-199140 2011-199139 2011-198838 2011-195907 2011-193014 2011-192945 2011-192661 2011-190490 2011-190519 2011-192702 2011-192931 2011-192969 2011-193012 2011-191113

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数