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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-199256 基板処理方法、この基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び差圧式流量計の異常検出方法 2011年10月 6日
特開 2011-199140 駆動装置及び接合装置 2011年10月 6日
特開 2011-199139 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2011年10月 6日
特開 2011-198838 基板脱着方法 2011年10月 6日
特開 2011-195907 マスク保持装置及び薄膜形成装置 2011年10月 6日
特開 2011-193014 塗布、現像装置 2011年 9月29日
特開 2011-192945 成膜装置及び成膜方法 2011年 9月29日
特開 2011-192661 載置台構造、成膜装置及び原料回収方法 2011年 9月29日
特開 2011-190490 洗浄方法及び処理装置 2011年 9月29日
特開 2011-190519 成膜装置 2011年 9月29日
特開 2011-192702 縦型熱処理装置および圧力検知システムと温度センサの組合体 2011年 9月29日
特開 2011-192931 半導体製造システム 2011年 9月29日
特開 2011-192969 現像処理装置及び現像処理方法 2011年 9月29日
特開 2011-193012 プラズマ処理装置 2011年 9月29日
特開 2011-191113 温度測定用プローブ、温度測定システム及びこれを用いた温度測定方法 2011年 9月29日

621 件中 106-120 件を表示

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2011-199256 2011-199140 2011-199139 2011-198838 2011-195907 2011-193014 2011-192945 2011-192661 2011-190490 2011-190519 2011-192702 2011-192931 2011-192969 2011-193012 2011-191113

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