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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4805051 | 液処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805565 | 熱処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805769 | 塗布処理方法 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4806127 | 薄膜形成方法 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4804567 | 基板浮上装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805758 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体及び塗布処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4806856 | 熱処理方法及び熱処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4804407 | 液処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4808889 | 透過分光を用いるウェハ帯域エッジの測定方法、及びウェハの温度均一性を制御するためのプロセス | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805003 | 液処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4806241 | 基板処理装置及び基板リフト装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4801547 | 載置台、基板処理装置、プラズマ処理装置、載置台の制御方法、プラズマ処理装置の制御方法、制御プログラム、及び記憶媒体 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4803591 | 溶剤供給方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4803596 | 測温装置 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4803578 | 成膜方法 | 2011年10月26日 |
739 件中 151-165 件を表示
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4805051 4805565 4805769 4806127 4804567 4805758 4806856 4804407 4808889 4805003 4806241 4801547 4803591 4803596 4803578
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