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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第34位 765件
（
2020年：第38位 718件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2026年10月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6987244 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6984431 | 流路洗浄方法及び流路洗浄装置 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6986397 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6986399 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6986623 | 基板処理装置、空調方法及び記憶媒体 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6986910 | 電圧印加装置および出力電圧波形の形成方法 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6986917 | 基板液処理装置 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6986937 | プラズマ処理装置 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6987016 | 半導体製造装置の組立装置 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6987206 | 塗布装置、および塗布方法 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6987172 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6987017 | 反応管ユニットの搬送方法 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6987021 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6986947 | 基板処理装置、温度制御方法及び温度制御プログラム | 2021年12月22日 | |
| 特許 6983282 | 光学膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置 | 2021年12月17日 |
520 件中 1-15 件を表示
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6987244 6984431 6986397 6986399 6986623 6986910 6986917 6986937 6987016 6987206 6987172 6987017 6987021 6986947 6983282
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