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東京エレクトロン株式会社

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  2022年 出願公開件数ランキング    第25位 842件 上昇2021年:第33位 878件)

  2022年 特許取得件数ランキング    第38位 690件 上昇2021年:第45位 515件)

(ランキング更新日:2025年4月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7197372 選択 基板液処理装置及び基板液処理方法 2022年12月27日
特許 7197376 選択 基板処理方法及び基板処理装置 2022年12月27日
特許 7197396 選択 基板処理装置及び基板処理方法 2022年12月27日
特許 7194937 選択 プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法 2022年12月23日
特許 7195060 選択 基板処理方法及び基板処理装置 2022年12月23日
特許 7195095 選択 基板処理装置 2022年12月23日
特許 7195106 選択 成膜方法及び基板処理システム 2022年12月23日
特許 7195113 選択 処理方法及び基板処理装置 2022年12月23日
特許 7195190 選択 成膜方法および成膜装置 2022年12月23日
特許 7195239 選択 成膜方法及び成膜装置 2022年12月23日
特許 7195241 選択 窒化膜の成膜方法、および窒化膜の成膜装置 2022年12月23日
特許 7195307 選択 上部電極およびプラズマ処理装置 2022年12月23日
特許 7195382 選択 基板処理システム、基板処理方法、プログラム、および情報記憶媒体 2022年12月23日
特許 7194386 選択 無塵服 2022年12月22日
特許 7194747 選択 基板処理装置および基板処理方法 2022年12月22日

693 件中 1-15 件を表示

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