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東京エレクトロン株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 842件
（
2021年：第33位 878件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第38位 690件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7197372 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2022年12月27日 | |
| 特許 7197376 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2022年12月27日 | |
| 特許 7197396 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2022年12月27日 | |
| 特許 7194937 | プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195060 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195095 | 基板処理装置 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195106 | 成膜方法及び基板処理システム | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195113 | 処理方法及び基板処理装置 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195190 | 成膜方法および成膜装置 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195239 | 成膜方法及び成膜装置 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195241 | 窒化膜の成膜方法、および窒化膜の成膜装置 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195307 | 上部電極およびプラズマ処理装置 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195382 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム、および情報記憶媒体 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7194386 | 無塵服 | 2022年12月22日 | |
| 特許 7194747 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2022年12月22日 |
693 件中 1-15 件を表示
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7197372 7197376 7197396 7194937 7195060 7195095 7195106 7195113 7195190 7195239 7195241 7195307 7195382 7194386 7194747
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