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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年4月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6443242 | ノズル、処理液供給装置、液処理装置、及び処理液供給方法 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6443243 | 基板処理方法 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444256 | 塗布処理装置および塗布処理方法 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444277 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444438 | 基板処理ブラシ及び基板処理装置 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444782 | チューナおよびマイクロ波プラズマ源 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444843 | 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444909 | 基板処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6446334 | プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の制御方法及び記憶媒体 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6438831 | 有機膜をエッチングする方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6439005 | 重合化学蒸着を使用して平坦化層を堆積させる方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6439203 | 半導体基板の裏側テクスチャリングを決定するための方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6439766 | 塗布、現像方法及び塗布、現像装置 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6440850 | グラフェンの製造方法、グラフェンの製造装置及び電子デバイスの製造方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6440864 | 液処理装置 | 2018年12月19日 |
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6443242 6443243 6444256 6444277 6444438 6444782 6444843 6444909 6446334 6438831 6439005 6439203 6439766 6440850 6440864
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