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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年3月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
特許 6623511
|
プラズマ処理装置 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6623943
|
半導体装置の製造方法、熱処理装置及び記憶媒体。 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6624833
|
マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6624998
|
ボロンドープシリコンゲルマニウム膜の形成方法および形成装置 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6625005
|
温度測定方法 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6625122
|
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6625200
|
半導体装置の製造方法 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6625423
|
ウエハ検査装置及びそのメンテナンス方法 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6625597
|
搬送チャンバ | 2019年12月25日 | |
| 特許 6625714
|
基板処理装置 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6626734
|
基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6626753
|
被加工物の処理装置 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6626800
|
プラズマ処理装置のシャワープレートを検査する方法 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6621882
|
エッチング装置 | 2019年12月18日 | |
| 特許 6617649
|
被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム | 2019年12月11日 |
418 件中 1-15 件を表示
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6623511 6623943 6624833 6624998 6625005 6625122 6625200 6625423 6625597 6625714 6626734 6626753 6626800 6621882 6617649
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