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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
(2015年:第56位 677件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
(2015年:第51位 433件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6051788
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プラズマ処理装置及びプラズマ発生装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6051858
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基板処理装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6051919
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液処理装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6053656
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液処理装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6053881
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プラズマ処理装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6054049
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めっき処理方法、めっき処理システムおよび記憶媒体 | 2016年12月27日 | |
特許 6054213
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支持部材及び半導体製造装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6054279
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金属配線層形成方法、金属配線層形成装置および記憶媒体 | 2016年12月27日 | |
特許 6054343
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基板洗浄装置、基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2016年12月27日 | |
特許 6054695
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成膜装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6054856
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絶縁領域の形成方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6055387
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接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び接合システム | 2016年12月27日 | |
特許 6055537
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プラズマ処理方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6055783
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基板載置台及びプラズマ処理装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6046974
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パターン形成方法 | 2016年12月21日 |
572 件中 1-15 件を表示
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6051788 6051858 6051919 6053656 6053881 6054049 6054213 6054279 6054343 6054695 6054856 6055387 6055537 6055783 6046974
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4月15日(火) - 大阪 大阪市
4月15日(火) -
4月16日(水) - 東京 大田
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4月16日(水) -
4月17日(木) - 東京 大田
4月17日(木) -
4月17日(木) -
4月18日(金) -
4月18日(金) -
4月18日(金) - 北海道 千代田区
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4月23日(水) - 東京 千代田区
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4月24日(木) - 東京 港区
4月24日(木) -
4月24日(木) -
4月25日(金) -
4月21日(月) -
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