特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第83位　585件（2016年：第61位　616件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第66位　431件（2016年：第49位　561件）

（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6253748	成膜方法及び成膜装置	2017年12月27日
特許 6254054	塗布装置、接合システム、塗布方法、接合方法、プログラム、および情報記憶媒体	2017年12月27日
特許 6254093	基板処理装置及び基板処理装置の制御装置	2017年12月27日
特許 6254459	重合膜の耐薬品性改善方法、重合膜の成膜方法、成膜装置、および電子製品の製造方法	2017年12月27日
特許 6254516	基板処理装置及び基板処理方法	2017年12月27日
特許 6254929	測定処理装置、基板処理システム、測定用治具、測定処理方法、及びその記憶媒体	2017年12月27日
特許 6255187	シリコン酸化膜をエッチングする方法	2017年12月27日
特許 6248562	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2017年12月20日
特許 6248707	半導体製造装置、成膜処理方法及び記憶媒体	2017年12月20日
特許 6249659	プラズマ処理装置	2017年12月20日
特許 6249970	半導体装置の製造方法	2017年12月20日
特許 6244518	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2017年12月13日
特許 6245399	基板処理装置	2017年12月13日
特許 6246558	シリコン酸炭窒化物膜、シリコン酸炭化物膜、シリコン酸窒化物膜の成膜方法および成膜装置	2017年12月13日
特許 6246673	測定装置、基板処理システムおよび測定方法	2017年12月13日

440 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6253748 6254054 6254093 6254459 6254516 6254929 6255187 6248562 6248707 6249659 6249970 6244518 6245399 6246558 6246673

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数