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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6253748 | 成膜方法及び成膜装置 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6254054 | 塗布装置、接合システム、塗布方法、接合方法、プログラム、および情報記憶媒体 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6254093 | 基板処理装置及び基板処理装置の制御装置 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6254459 | 重合膜の耐薬品性改善方法、重合膜の成膜方法、成膜装置、および電子製品の製造方法 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6254516 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6254929 | 測定処理装置、基板処理システム、測定用治具、測定処理方法、及びその記憶媒体 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6255187 | シリコン酸化膜をエッチングする方法 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6248562 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6248707 | 半導体製造装置、成膜処理方法及び記憶媒体 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6249659 | プラズマ処理装置 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6249970 | 半導体装置の製造方法 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6244518 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6245399 | 基板処理装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6246558 | シリコン酸炭窒化物膜、シリコン酸炭化物膜、シリコン酸窒化物膜の成膜方法および成膜装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6246673 | 測定装置、基板処理システムおよび測定方法 | 2017年12月13日 |
440 件中 1-15 件を表示
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6253748 6254054 6254093 6254459 6254516 6254929 6255187 6248562 6248707 6249659 6249970 6244518 6245399 6246558 6246673
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