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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
(2016年:第61位 616件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
(2016年:第49位 561件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6253748 | 成膜方法及び成膜装置 | 2017年12月27日 | |
特許 6254054 | 塗布装置、接合システム、塗布方法、接合方法、プログラム、および情報記憶媒体 | 2017年12月27日 | |
特許 6254093 | 基板処理装置及び基板処理装置の制御装置 | 2017年12月27日 | |
特許 6254459 | 重合膜の耐薬品性改善方法、重合膜の成膜方法、成膜装置、および電子製品の製造方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6254516 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6254929 | 測定処理装置、基板処理システム、測定用治具、測定処理方法、及びその記憶媒体 | 2017年12月27日 | |
特許 6255187 | シリコン酸化膜をエッチングする方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6248562 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6248707 | 半導体製造装置、成膜処理方法及び記憶媒体 | 2017年12月20日 | |
特許 6249659 | プラズマ処理装置 | 2017年12月20日 | |
特許 6249970 | 半導体装置の製造方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6244518 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年12月13日 | |
特許 6245399 | 基板処理装置 | 2017年12月13日 | |
特許 6246558 | シリコン酸炭窒化物膜、シリコン酸炭化物膜、シリコン酸窒化物膜の成膜方法および成膜装置 | 2017年12月13日 | |
特許 6246673 | 測定装置、基板処理システムおよび測定方法 | 2017年12月13日 |
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6253748 6254054 6254093 6254459 6254516 6254929 6255187 6248562 6248707 6249659 6249970 6244518 6245399 6246558 6246673
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4月4日(金) -
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4月11日(金) -
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