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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4790326 | 処理システム及び処理方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4790458 | プラズマ処理装置 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4791110 | 真空チャンバおよび真空処理装置 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4792719 | 成膜装置及び成膜方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4793927 | 基板処理方法及びその装置 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4790291 | 基板処理方法、記録媒体および基板処理装置 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4793306 | プラズマ処理方法及び記憶媒体 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4789821 | 基板処理装置の検査方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4791034 | 半導体装置の製造方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4791379 | 基板処理装置、基板搬送方法、制御プログラムおよびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4792381 | 基板処理装置、フォーカスリングの加熱方法及び基板処理方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4787872 | 基板搬送処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4786782 | 耐食性に優れたＣＶＤ−ＳｉＣおよびそれを用いた耐食性部材、ならびに処理装置 | 2011年10月 5日 | 共同出願 |
| 特許 4787636 | 高圧処理装置 | 2011年10月 5日 | 共同出願 |
| 特許 4787003 | ポンプを冷却する方法及びシステム | 2011年10月 5日 | 共同出願 |
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4790326 4790458 4791110 4792719 4793927 4790291 4793306 4789821 4791034 4791379 4792381 4787872 4786782 4787636 4787003
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12月4日(水) - 東京 港区
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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