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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4781505 | 処理装置の自動検査方法および自動復帰方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4783094 | プラズマ処理用環状部品、プラズマ処理装置、及び外側環状部材 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4780789 | 処理液供給装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782761 | 成膜装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782682 | 連絡空間を用いた効率的な温度制御のための方法と装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782316 | 処理方法及びプラズマ装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781711 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4783762 | 基板載置台および基板処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782953 | プローブカード特性測定装置、プローブ装置及びプローブ方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781901 | 熱処理方法，プログラム及び熱処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782733 | 載置台およびそれを用いたプラズマ処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781165 | 熱処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4780808 | 現像処理方法及び現像処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781430 | 撮像位置補正方法及び基板撮像装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782699 | 部品の消耗を監視するための方法とシステム | 2011年 9月28日 |
739 件中 226-240 件を表示
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4781505 4783094 4780789 4782761 4782682 4782316 4781711 4783762 4782953 4781901 4782733 4781165 4780808 4781430 4782699
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11月26日(火) - 東京 港区
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
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12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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