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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4767574 | 処理チャンバおよび処理装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4765169 | 熱処理装置と熱処理方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4767896 | 被検査体の搬送装置及び検査装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4767783 | 液処理装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4765328 | 被処理体の処理装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4764457 | 原料気化器及び反応処理装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4762835 | 基板処理方法、基板処理装置、プログラムおよびプログラム記録媒体 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4763293 | 光放射によるシステムコンポーネントへの材料物質付着のモニタリング | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4758938 | 絶縁膜の形成方法及び絶縁膜の形成装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4761427 | 被処理体表面検査装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4761740 | マイクロレンズの形成方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4763763 | レジスト塗布現像処理システム | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4763235 | プラズマ処理のための装置並びに方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762743 | 熱処理装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4761381 | 薄膜除去装置及び薄膜除去方法 | 2011年 8月31日 |
739 件中 271-285 件を表示
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4767574 4765169 4767896 4767783 4765328 4764457 4762835 4763293 4758938 4761427 4761740 4763763 4763235 4762743 4761381
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