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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件 (2010年:第57位 692件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件 (2010年:第39位 580件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4844510 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | 2011年12月28日 | |
特許 4848376 | 高圧処理システム用超臨界流体均質化方法及びシステム | 2011年12月28日 | 共同出願 |
特許 4842227 | 半導体製造装置における地震被害拡散低減システム | 2011年12月21日 | |
特許 4842787 | 蒸気発生装置、処理システム、蒸気発生方法及び記録媒体 | 2011年12月21日 | |
特許 4842176 | 温度測定装置及び温度測定方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4842771 | 処理システムと処理方法および記録媒体 | 2011年12月21日 | |
特許 4842263 | TERA層を化学処理するための処理システムおよび方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4843285 | 電子デバイスの製造方法及びプログラム | 2011年12月21日 | |
特許 4843274 | プラズマ成膜方法 | 2011年12月21日 | 共同出願 |
特許 4840168 | 加熱装置、加熱方法及び記憶媒体 | 2011年12月21日 | |
特許 4843212 | レーザー処理装置及びレーザー処理方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4841183 | 基板処理装置,搬送装置,搬送装置の制御方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4842429 | 熱処理装置の設計方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2011年12月21日 | |
特許 4842175 | 温度測定装置及び温度測定方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4841035 | 真空処理装置 | 2011年12月21日 |
739 件中 16-30 件を表示
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4844510 4848376 4842227 4842787 4842176 4842771 4842263 4843285 4843274 4840168 4843212 4841183 4842429 4842175 4841035
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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