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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年11月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5526988 | 基板処理装置及び基板処理システム | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525462 | 絶縁膜の形成方法および基板処理装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5524362 | 基板処理方法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5524132 | 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、及び、薄膜形成装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5522124 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525399 | 搬送装置、基板処理システム及び姿勢制御機構 | 2014年 6月18日 | 共同出願 |
| 特許 5520455 | プラズマ処理装置 | 2014年 6月11日 | 共同出願 |
| 特許 5521307 | パーティクル捕集装置及びパーティクル捕集方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518756 | 液処理装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518550 | 被処理体処理装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5519329 | 半導体製造装置の処理チャンバ内パーツの加熱方法及び半導体製造装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5516232 | 真空処理装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5521114 | 検査装置、検査システム及び検査方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518598 | パーティクル分布解析支援方法及びその方法を実施するためのプログラムを記録した記録媒体 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5517344 | プローブカードの搬送機構、プローブカードの搬送方法及びプローブ装置 | 2014年 6月11日 |
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5526988 5525462 5524362 5524132 5522124 5525399 5520455 5521307 5518756 5518550 5519329 5516232 5521114 5518598 5517344
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