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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5521066 | 接合装置及び接合システム | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5520974 | 被処理基体の処理方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5520258 | 色素吸着装置及び色素吸着方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5519992 | 基板載置台の温度制御システム及びその温度制御方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518793 | 液処理装置および液処理方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5517350 | 載置台駆動装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5516482 | 基板搬送方法、基板搬送装置、及び塗布現像装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5516447 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5514667 | 回転塗布方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5512508 | 液処理装置および液処理方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5512633 | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5509472 | 歪みシリコン窒化物膜及び該膜を含むデバイスの作製方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5514162 | アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5514129 | 成膜方法、成膜装置、および成膜装置の使用方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5513544 | 基板処理装置 | 2014年 6月 4日 |
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5521066 5520974 5520258 5519992 5518793 5517350 5516482 5516447 5514667 5512508 5512633 5509472 5514162 5514129 5513544
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