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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年11月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5503057 | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5503189 | プローブカード | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5503601 | 処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5503564 | 処理装置の異常判定システム及びその異常判定方法 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5503435 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5507438 | 液処理装置および液処理方法 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5503503 | プラズマ処理装置 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5503006 | 基板処理システム、搬送モジュール、基板処理方法及び半導体素子の製造方法 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5502070 | チューナおよびマイクロ波プラズマ源 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5501688 | 基板位置合わせ機構、それを用いた真空予備室および基板処理システム | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5501807 | 処理装置 | 2014年 5月28日 | 共同出願 |
| 特許 5506461 | 超臨界処理装置及び超臨界処理方法 | 2014年 5月28日 | 共同出願 |
| 特許 5496630 | 静電チャック装置 | 2014年 5月21日 | 共同出願 |
| 特許 5497423 | 成膜装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5496925 | めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 | 2014年 5月21日 |
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5503057 5503189 5503601 5503564 5503435 5507438 5503503 5503006 5502070 5501688 5501807 5506461 5496630 5497423 5496925
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