ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2011年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年12月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4721289 | 基板処理装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4722876 | 金属酸化膜の形成方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720464 | 成膜方法及び成膜装置並びに記憶媒体 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720266 | 成膜方法、成膜装置及びコンピュータプログラム | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720029 | 枚葉式の熱処理装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720019 | 冷却機構及び処理装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4725650 | プローブ装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4723631 | 現像処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び現像処理装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4724353 | 半導体基板のための高圧処理チャンバー | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4723513 | 化学的酸化物除去（ＣｈｅｍｉｃａｌＯｘｉｄｅＲｅｍｏｖａｌ）システムの操作方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4723503 | 高ｋ誘電体材料をエッチングするための方法とシステム | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4722725 | 処理方法およびプラズマエッチング方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4722550 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4718061 | 液処理装置および液処理方法ならびに現像処理装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4718272 | レニウム系膜の成膜方法、ゲート電極の形成方法、半導体装置の製造方法、およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2011年 7月 6日 |
739 件中 406-420 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4721289 4722876 4720464 4720266 4720029 4720019 4725650 4723631 4724353 4723513 4723503 4722725 4722550 4718061 4718272
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ～ つながりを育む出会いの場（知財ネットワーク交流会）～
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月7日(土) - 東京 港区赤坂4-2-6 住友不動産新赤坂ビル10階
【開催間近！合格者限定イベント】令和6年度弁理士試験 合格祝賀会オフ会開催｜予備校や会派に関わらず全ての合格者の方が参加可能◎
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月10日(火) - 東京 港区
12月10日(火) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月11日(水) - 東京 港区
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
12月12日(木) - 東京 品川
ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ～秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約～
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
12月14日(土) -
12月10日(火) - 東京 港区
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒１６６－０００３ 東京都杉並区高円寺南２－５０－２ ＹＳビル３Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒541-0046 大阪市中央区平野町２丁目２番９号 ビル皿井２階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
