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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年12月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5484325 | 半導体装置の製造方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486970 | 基板脱着方法及び基板処理装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486883 | 被処理体の処理方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5485958 | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5485950 | プラズマ処理装置の制御方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5485056 | イオン供給装置及びこれを備えた被処理体の処理システム | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5484981 | 基板載置台及び基板処理装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5484363 | 基板処理方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5482500 | 基板処理装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5477961 | 液処理装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5481079 | ゲートバルブ及びゲートバルブの開閉方法 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5480605 | 基板搬送装置および基板処理システム | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5482196 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5479013 | プラズマ処理装置及びこれに用いる遅波板 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5476269 | 成膜方法及び成膜装置 | 2014年 4月23日 |
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5484325 5486970 5486883 5485958 5485950 5485056 5484981 5484363 5482500 5477961 5481079 5480605 5482196 5479013 5476269
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