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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年12月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4706260 | 被処理体の酸化方法、酸化装置及び記憶媒体 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4705378 | 処理装置及び処理方法 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4705967 | プラズマ処理装置 | 2011年 6月22日 | 共同出願 |
| 特許 4704445 | プラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4704088 | プラズマ処理装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4704087 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4703810 | ＣＶＤ成膜方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4702446 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4701776 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4701691 | エッチング方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4701496 | 処理方法及びその装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4700564 | 洗浄装置及び洗浄ユニットを有する処理装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4700536 | 液処理装置並びに液処理装置の処理液供給方法及び処理液供給プログラム。 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4700117 | 現像処理方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4694108 | 酸化膜形成方法、酸化膜形成装置および電子デバイス材料 | 2011年 6月 8日 |
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4706260 4705378 4705967 4704445 4704088 4704087 4703810 4702446 4701776 4701691 4701496 4700564 4700536 4700117 4694108
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ～秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約～
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12月13日(金) - 東京 品川
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