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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年12月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5438260 | プラズマ処理装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5438205 | プラズマ処理装置用の天板及びプラズマ処理装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5442517 | パターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5442871 | 半導体デバイスの製造方法および半導体デバイスの製造装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5440642 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、現像方法、現像装置及び記憶媒体 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5437763 | 現像処理方法及び基板処理方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5437739 | 液処理システム | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5437168 | 基板の液処理装置および液処理方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5434800 | 疎水化処理方法及び疎水化処理装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5434781 | 処理液供給機構 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5430697 | 塗布方法及び塗布装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5436949 | アダプタユニット内蔵型ローダ室 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5436763 | 気密モジュール、及び該気密モジュールの排気方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5436589 | 成膜装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5434614 | 基板処理装置 | 2014年 3月 5日 |
694 件中 541-555 件を表示
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5438260 5438205 5442517 5442871 5440642 5437763 5437739 5437168 5434800 5434781 5430697 5436949 5436763 5436589 5434614
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