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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4816217 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4814976 | レジスト塗布処理方法及びレジストパターンの形成方法。 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817266 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816790 | 基板処理装置及び基板搬送方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816478 | エッチング方法及び記憶媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816052 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816616 | ガスシャワーヘッド、処理装置、処理方法及び処理装置のメンテナンス方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816545 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817268 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4818835 | 気体供給ユニット | 2011年11月16日 | |
| 特許 4819010 | 処理装置、処理方法および記憶媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817822 | 基板周縁部膜除去装置及び基板周縁部膜の除去方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4818140 | 基板の処理方法及び基板処理装置 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4818589 | 処理装置 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817210 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年11月16日 |
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4816217 4814976 4817266 4816790 4816478 4816052 4816616 4816545 4817268 4818835 4819010 4817822 4818140 4818589 4817210
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12月1日(日) -
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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
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12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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12月2日(月) - 滋賀 草津市
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