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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4816545 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816052 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816747 | 液処理装置及び液処理方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4810281 | プラズマ処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4812847 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4811860 | 熱処理方法、そのプログラム及び熱処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813540 | 処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4809699 | 塗布方法及び塗布装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4811881 | 基板熱処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813583 | 基板処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813449 | 洗浄装置および洗浄方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813393 | 液処理装置及び処理液の消泡方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4811882 | 基板熱処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813430 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、および記録媒体 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813600 | 液処理装置および液処理方法 | 2011年11月 9日 |
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4816545 4816052 4816747 4810281 4812847 4811860 4813540 4809699 4811881 4813583 4813449 4813393 4811882 4813430 4813600
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12月1日(日) -
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12月2日(月) -
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12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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12月2日(月) - 滋賀 草津市
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