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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第327位 135件
(2016年:第499位 67件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件
(2016年:第236位 145件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6117509 | 蒸着装置 | 2017年 4月19日 | |
特許 6117550 | スパッタリング装置の制御方法 | 2017年 4月19日 | |
特許 6108588 | 炭化珪素半導体素子の製造方法 | 2017年 4月 5日 | |
特許 6108931 | 基板加熱機構、成膜装置 | 2017年 4月 5日 | |
特許 6108938 | 酸化皮膜の形成方法 | 2017年 4月 5日 | |
特許 6108975 | ガスクラスターイオンビーム装置 | 2017年 4月 5日 | |
特許 6110224 | ターゲットアセンブリ及びその製造方法 | 2017年 4月 5日 | |
特許 6100047 | 窒化ガリウム膜の形成方法、及び、窒化ガリウム膜の形成装置 | 2017年 3月22日 | |
特許 6095405 | アラインメント方法 | 2017年 3月15日 | |
特許 6092721 | 成膜装置 | 2017年 3月 8日 | |
特許 6093091 | XYステージ、アライメント装置、蒸着装置 | 2017年 3月 8日 | |
特許 6088670 | プラズマ処理装置、及びウェハ搬送用トレイ | 2017年 3月 1日 | |
特許 6088768 | Cu−Ga系合金ターゲットの製造方法 | 2017年 3月 1日 | |
特許 6088780 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 3月 1日 | |
特許 6084440 | 基板処理装置のアライメント機構 | 2017年 2月22日 |
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6117509 6117550 6108588 6108931 6108938 6108975 6110224 6100047 6095405 6092721 6093091 6088670 6088768 6088780 6084440
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