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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第291位 132件 (2020年:第192位 224件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第322位 84件 (2020年:第293位 94件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-31739 | 成膜装置及び成膜方法 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-32488 | 配管構造体及び熱交換器 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-34406 | 真空処理装置 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-35158 | 真空排気装置及びその運転方法 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-25102 | 真空処理装置 | 2021年 2月22日 | |
特開 2021-25411 | ドライポンプの製造方法 | 2021年 2月22日 | |
特開 2021-27002 | 量子ドット発光素子及び表示装置 | 2021年 2月22日 | |
再表 2020-144891 | 真空処理装置 | 2021年 2月18日 | |
再表 2020-144894 | 蒸着装置 | 2021年 2月18日 | |
特開 2021-21120 | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 | 2021年 2月18日 | |
特開 2021-22636 | 半導体装置の製造方法 | 2021年 2月18日 | |
特開 2021-22676 | イオン注入方法及びイオン注入装置 | 2021年 2月18日 | |
再表 2020-79881 | 接触式給電装置及び接触ユニット | 2021年 2月15日 | |
再表 2020-85027 | カソード装置、および、スパッタ装置 | 2021年 2月15日 | |
再表 2020-90163 | 真空処理装置 | 2021年 2月15日 |
138 件中 91-105 件を表示
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2021-31739 2021-32488 2021-34406 2021-35158 2021-25102 2021-25411 2021-27002 2020-144891 2020-144894 2021-21120 2021-22636 2021-22676 2020-79881 2020-85027 2020-90163
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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