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東京エレクトロン株式会社

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  2015年 出願公開件数ランキング    第56位 677件 上昇2014年:第58位 686件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第51位 433件 下降2014年:第48位 694件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2015-193902 炭窒化チタン膜を形成する方法、及び成膜装置 2015年11月 5日
特開 2015-193908 タングステン膜の成膜方法および半導体装置の製造方法 2015年11月 5日
特開 2015-195282 成膜方法、半導体製造方法及び半導体装置 2015年11月 5日
特開 2015-195350 縦型熱処理装置の運転方法、記憶媒体及び縦型熱処理装置 2015年11月 5日
特開 2015-195386 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、及び、薄膜形成装置 2015年11月 5日
特開 2015-190007 透明導電膜の処理方法 2015年11月 2日
特開 2015-190020 タングステン膜の成膜方法 2015年11月 2日
特開 2015-190035 ガス供給機構およびガス供給方法、ならびにそれを用いた成膜装置および成膜方法 2015年11月 2日
特開 2015-190788 基板検査装置 2015年11月 2日
特開 2015-191819 基板処理装置 2015年11月 2日
特開 2015-191880 処理装置及び処理方法 2015年11月 2日
特開 2015-191912 成膜装置 2015年11月 2日
特開 2015-191955 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 2015年11月 2日
特開 2015-191957 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 2015年11月 2日
特開 2015-192063 アモルファスシリコン膜形成装置の洗浄方法、アモルファスシリコン膜の形成方法およびアモルファスシリコン膜形成装置 2015年11月 2日

688 件中 106-120 件を表示

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2015-193902 2015-193908 2015-195282 2015-195350 2015-195386 2015-190007 2015-190020 2015-190035 2015-190788 2015-191819 2015-191880 2015-191912 2015-191955 2015-191957 2015-192063

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