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東京エレクトロン株式会社

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第83位　585件（2016年：第61位　616件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第66位　431件（2016年：第49位　561件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-174889	被加工物の処理装置	2017年 9月28日
特開 2017-174890	プラズマ処理方法	2017年 9月28日
特開 2017-174902	半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造システム	2017年 9月28日
特開 2017-174918	窒化膜の形成方法	2017年 9月28日
特開 2017-174919	窒化膜の形成方法	2017年 9月28日
特開 2017-174983	制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム	2017年 9月28日
特開 2017-175002	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2017年 9月28日
特開 2017-175106	成膜方法及び成膜装置	2017年 9月28日
特開 2017-175119	基板洗浄装置	2017年 9月28日
特開 2017-175133	発色団及び光曝露を用いたポリマー除去	2017年 9月28日
特開 2017-166031	トラップ装置及びこれを用いた排気系、並びに基板処理装置	2017年 9月21日
特開 2017-167102	圧力測定装置及びこれを用いた排気システム、並びに基板処理装置	2017年 9月21日
特開 2017-167174	補助露光装置	2017年 9月21日
特開 2017-167702	電力制御装置及び電力制御方法	2017年 9月21日
特開 2017-168185	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2017年 9月21日

593 件中 151-165 件を表示

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2017-174889 2017-174890 2017-174902 2017-174918 2017-174919 2017-174983 2017-175002 2017-175106 2017-175119 2017-175133 2017-166031 2017-167102 2017-167174 2017-167702 2017-168185

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