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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-198325 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2018年12月13日 | |
| 再表 2017-138355 | 研削装置および研削方法 | 2018年12月 6日 | |
| 再表 2017-145840 | 基板処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-193616 | プラズマ処理装置用の部品の製造方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-194356 | デバイスの検査方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-194608 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム、および情報記憶媒体 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195102 | オゾン用マスフローコントローラの出力検査方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195548 | プラズマ処理装置 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195610 | 成膜方法及び成膜装置 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195644 | 基板搬出方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195671 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195674 | プラズマ処理装置、処理システム、及び、多孔質膜をエッチングする方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195678 | 多孔質膜をエッチングする方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195722 | 冷却循環システム、基板処理装置、及び冷却媒体循環流路のパージ方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195725 | 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 | 2018年12月 6日 |
591 件中 31-45 件を表示
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2018-198325 2017-138355 2017-145840 2018-193616 2018-194356 2018-194608 2018-195102 2018-195548 2018-195610 2018-195644 2018-195671 2018-195674 2018-195678 2018-195722 2018-195725
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ～ つながりを育む出会いの場（知財ネットワーク交流会）～
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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