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東京エレクトロン株式会社

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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第67位　588件（2017年：第83位　585件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第50位　503件（2017年：第66位　431件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-186259	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2018年11月22日
特開 2018-186263	プラズマ処理装置	2018年11月22日
特開 2018-186497	フィルタ装置及びプラズマ処理装置	2018年11月22日
再表 2017-135064	基板処理装置および基板処理方法	2018年11月15日
特開 2018-176366	基板周縁部のクリーニング装置、基板周縁部のクリーニング方法及び記憶媒体	2018年11月15日
特開 2018-178163	可動体構造及び成膜装置	2018年11月15日
特開 2018-178236	基板処理装置、処理ガスノズル内のパーティクルコーティング方法及び基板処理方法	2018年11月15日
特開 2018-179728	位置検出システム及び処理装置	2018年11月15日
特開 2018-181102	流量制御器の出力流量を求める方法及び被処理体を処理する方法	2018年11月15日
特開 2018-181633	プラズマ処理装置及び制御方法	2018年11月15日
特開 2018-181634	プラズマ処理装置及び制御方法	2018年11月15日
特開 2018-181946	基板処理装置および基板処理方法	2018年11月15日
特開 2018-181963	塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体	2018年11月15日
特開 2018-181984	基板処理方法および基板処理装置	2018年11月15日
特開 2018-182006	成膜装置及び成膜方法	2018年11月15日

591 件中 76-90 件を表示

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2018-186259 2018-186263 2018-186497 2017-135064 2018-176366 2018-178163 2018-178236 2018-179728 2018-181102 2018-181633 2018-181634 2018-181946 2018-181963 2018-181984 2018-182006

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