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東京エレクトロン株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
（
2019年：第58位 660件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
（2019年：第58位 415件）
（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-184551 | 除電方法及び基板処理装置 | 2020年11月12日 | |
| 特開 2020-184552 | 成膜方法及び成膜装置 | 2020年11月12日 | |
| 特開 2020-184553 | 熱処理装置、熱処理方法及び成膜方法 | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-531822 | 相決定用の光センサ | 2020年11月 5日 | |
| 特表 2020-532101 | 工業用製造機器における特性をリアルタイム感知するための装置及び方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特表 2020-532104 | ＦＥＴデバイスのナノチャネル構造にシングルディフュージョンブレークを組み込むための方法及びデバイス | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-180354 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181259 | 制御方法、計測方法、制御装置及び熱処理装置 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181650 | 補正関数を決定する方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181651 | 補正関数を決定する方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181855 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181886 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181901 | 液処理装置の運転方法及び液処理装置 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181950 | 液処理装置、及び液処理方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-181959 | 学習方法、管理装置および管理プログラム | 2020年11月 5日 |
777 件中 106-120 件を表示
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2020-184551 2020-184552 2020-184553 2020-531822 2020-532101 2020-532104 2020-180354 2020-181259 2020-181650 2020-181651 2020-181855 2020-181886 2020-181901 2020-181950 2020-181959
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