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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第490位 79件
(2016年:第478位 71件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第896位 24件
(2016年:第563位 46件)
(ランキング更新日:2025年4月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6125521 | 中間周波数RF帯域の高電圧バイアス電力のためのバイパスコンデンサ | 2017年 5月10日 | |
特許 6110540 | 半導体ウエハ処理装置、及び、半導体ウェハを処理する方法 | 2017年 4月 5日 | |
特許 6104497 | めっき溶液の解析及び制御のための方法と装置 | 2017年 3月29日 | |
特許 6104813 | プラズマ処理システムおよびこれを制御する方法 | 2017年 3月29日 | |
特許 6104934 | 無電解銅蒸着 | 2017年 3月29日 | |
特許 6091110 | 急速交互プロセス(RAP)のリアルタイム制御のためのシステム、方法、及び装置 | 2017年 3月 8日 | |
特許 6088493 | プラズマエッチングリアクタのセラミックシャワーヘッドのためのガス分配システム | 2017年 3月 1日 | |
特許 6066728 | CDの均一性を向上させるための基板温度調整を行う方法及びプラズマエッチングシステム | 2017年 1月25日 | |
特許 6067705 | 多重ヒータ配列の温度監視及び制御のためのシステムと方法 | 2017年 1月25日 |
24 件中 16-24 件を表示
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6125521 6110540 6104497 6104813 6104934 6091110 6088493 6066728 6067705
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4月15日(火) - 大阪 大阪市
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4月16日(水) - 東京 大田
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4月17日(木) - 東京 大田
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4月18日(金) -
4月18日(金) -
4月18日(金) - 北海道 千代田区
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4月23日(水) - 東京 千代田区
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4月24日(木) - 東京 港区
4月24日(木) -
4月24日(木) -
4月25日(金) -
4月21日(月) -
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