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ラム　リサーチ　コーポレーション

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第1534位　16件（2018年：第577位　52件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第656位　34件（2018年：第650位　36件）

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ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6623256	プラズマ均一性調整のためのマルチ高周波インピーダンス制御	2019年12月18日
特許 6619639	キャリアリング	2019年12月11日
特許 6602030	前駆体のバルク気化のためのシステムおよび方法	2019年11月 6日
特許 6598745	半導体製造機器内の消耗部品の摩耗検出	2019年10月30日
特許 6599086	プラズマ処理システム、圧力調整方法、および基板処理方法	2019年10月30日
特許 6599132	中空陰極放電（ＨＣＤ）を抑制するフェースプレートアセンブリ、プラズマ処理システム及びプラズマ処理方法	2019年10月30日
特許 6599166	差動排気式の反応性ガス注入器	2019年10月30日
特許 6590632	排出流の方向が単一のバッファステーション	2019年10月16日
特許 6584249	プラズマ処理チャンバの構成部品を洗浄する湿式洗浄工程	2019年10月 2日
特許 6580426	寄生プラズマを抑制してウエハ内での不均一性を低減するための基板処理システム	2019年 9月25日
特許 6578163	裏面成膜を低減し、基板端部の厚さ変化を緩和するシステムおよび方法	2019年 9月18日
特許 6573754	成膜装置、半導体基板を処理する方法、及び、シャワーヘッドモジュール	2019年 9月11日
特許 6574020	コンダクタンス制御を有する化学蒸着装置	2019年 9月11日
特許 6567864	マルチステーション基板堆積システムにおける一ＡＬＤサイクルの厚さ制御	2019年 8月28日
特許 6562629	パルスプラズマ暴露を伴うプラズマ原子層堆積	2019年 8月21日

34 件中 1-15 件を表示

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6623256 6619639 6602030 6598745 6599086 6599132 6599166 6590632 6584249 6580426 6578163 6573754 6574020 6567864 6562629

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