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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5836959 | 基板支持アセンブリにおけるヒータに電力を供給する方法、および、半導体基板支持体 | 2015年12月24日 | |
特許 5837503 | プラズマ処理システム内でプラズマの閉じ込め状態を検出するための方法および装置 | 2015年12月24日 | |
特許 5838079 | 半導体用途での正確な温度測定 | 2015年12月24日 | |
特許 5833600 | シリコン層にフィーチャーをエッチングする方法およびその装置 | 2015年12月16日 | |
特許 5826185 | 可変マイクロ波回路および可調プラズマアッシング装置 | 2015年12月 2日 | |
特許 5826353 | 半導体材料処理装置用の低粒子性能を有するシャワーヘッド電極及びシャワーヘッド電極アセンブリ | 2015年12月 2日 | |
特許 5826761 | 小型のプラズマチャンバシステム及び方法 | 2015年12月 2日 | |
特許 5820870 | 金属堆積のために基板表面を調整する方法および統合システム | 2015年11月24日 | |
特許 5815703 | プラズマ処理チャンバ、プラズマ処理チャンバの部品及びその製造方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5808736 | プラズマ処理システム | 2015年11月10日 | |
特許 5808750 | 傾斜側壁を備える静電チャック | 2015年11月10日 | |
特許 5804706 | キャップ層を有する基板用の析出後洗浄方法並びに組成 | 2015年11月 4日 | |
特許 5805077 | 多段階基板洗浄の方法及び装置 | 2015年11月 4日 | |
特許 5805105 | 高アスペクト比ナノ構造におけるパターン崩壊の低減方法 | 2015年11月 4日 | |
特許 5800835 | プラズマ処理装置のための埋め込み型留め具 | 2015年10月28日 |
69 件中 1-15 件を表示
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5836959 5837503 5838079 5833600 5826185 5826353 5826761 5820870 5815703 5808736 5808750 5804706 5805077 5805105 5800835
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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