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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第499位 66件
(2019年:第1534位 16件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第614位 36件
(2019年:第656位 34件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6804864 | MRAMスタックをパターニングする乾式プラズマ・エッチング法 | 2020年12月23日 | |
特許 6804920 | 原子層堆積のための動的前駆体注入 | 2020年12月23日 | |
特許 6799902 | 多孔バッフルを備えた低容積シャワーヘッド | 2020年12月16日 | |
特許 6799903 | 基板上にタングステンを堆積する方法およびその装置 | 2020年12月16日 | |
特許 6798892 | プラズマチャンバのための変圧器結合容量性同調回路およびシステム | 2020年12月 9日 | |
特許 6794124 | 消耗品のためのセンサおよびアジャスタ | 2020年12月 2日 | |
特許 6794138 | 電解液供給生成装置 | 2020年12月 2日 | |
特許 6789614 | 不揮発性金属材料をエッチングする方法 | 2020年11月25日 | |
特許 6789627 | 膜均一性改善のためのハードウェアおよび処理 | 2020年11月25日 | |
特許 6789932 | 調整可能ガスフロー制御のためのガス分離器を含むガス供給配送配置 | 2020年11月25日 | |
特許 6783521 | 半導体ウエハ処理中におけるエッジ処理制御のための可動式エッジ連結リング | 2020年11月11日 | |
特許 6758808 | プラズマ援用原子層堆積におけるRF補償のための方法及び装置 | 2020年 9月23日 | |
特許 6758818 | エネルギー吸収体ガスへの衝突共鳴エネルギー伝達によるプラズマのVUV放出の調節 | 2020年 9月23日 | |
特許 6758839 | 基板処理システムにおいてハードマスクとして使用する非晶質炭素およびシリコン膜の金属ドーピング | 2020年 9月23日 | |
特許 6752555 | 二次パージ対応ALDシステムにおけるシャワーヘッド裏側の寄生プラズマを抑制するための方法及び装置 | 2020年 9月 9日 |
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6804864 6804920 6799902 6799903 6798892 6794124 6794138 6789614 6789627 6789932 6783521 6758808 6758818 6758839 6752555
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