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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2017-539075	半導体製造機器のモバイル接続性および制御	2017年12月28日
特開 2017-227892	物理学ベースのエッチングプロファイルモデリングフレームワークを用いた高速エッジ配置誤差予測によるフォトレジスト設計レイアウトパターン近接効果補正	2017年12月28日
特開 2017-228526	結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム及び方法	2017年12月28日
特開 2017-228791	不活性ガスから生成される準安定ガスを使用する原子層エッチング	2017年12月28日
特開 2017-224601	複数のプラズマ処理ステーションにわたってインピーダンスまたは電力を調整するための結合器／分配器	2017年12月21日
特開 2017-224816	膜プロフィール調整のためのシャワーヘッドカーテンガス方法及びシャワーヘッドガスカーテンシステム	2017年12月21日
特開 2017-216439	積層ヒータとヒータ電圧入力との間の接続	2017年12月 7日
特開 2017-216440	異なるヒータ配線材料を有する積層ヒータ	2017年12月 7日
特開 2017-216441	静電チャック接合のための永久二次浸食封じ込め	2017年12月 7日
特開 2017-216442	半導体製造において電気的非対称効果を用いてプラズマプロセス空間を制御するためのシステムおよび方法	2017年12月 7日
特開 2017-216443	再配線層における均一性を実現するためのシステム及び方法	2017年12月 7日
特表 2017-534174	モノリシックガス分配マニホールドならびにその様々な構成技術および利用例	2017年11月16日
特表 2017-533508	半導体ツールでの整備、メンテナンス、および追跡活動を支援するためのモバイルデバイスユーザインターフェース	2017年11月 9日
特表 2017-532788	調整可能ガスフロー制御のためのガス分離器を含むガス供給配送配置	2017年11月 2日
特開 2017-199649	直流パルス式プラズマシステム	2017年11月 2日

79 件中 1-15 件を表示

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2017-539075 2017-227892 2017-228526 2017-228791 2017-224601 2017-224816 2017-216439 2017-216440 2017-216441 2017-216442 2017-216443 2017-534174 2017-533508 2017-532788 2017-199649

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