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ラム リサーチ コーポレーション
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第490位 79件
（
2016年：第478位 71件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第896位 24件
（2016年：第563位 46件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ラム リサーチ コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2017-539075 | 半導体製造機器のモバイル接続性および制御 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-227892 | 物理学ベースのエッチングプロファイルモデリングフレームワークを用いた高速エッジ配置誤差予測によるフォトレジスト設計レイアウトパターン近接効果補正 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228526 | 結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム及び方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228791 | 不活性ガスから生成される準安定ガスを使用する原子層エッチング | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-224601 | 複数のプラズマ処理ステーションにわたってインピーダンスまたは電力を調整するための結合器／分配器 | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-224816 | 膜プロフィール調整のためのシャワーヘッドカーテンガス方法及びシャワーヘッドガスカーテンシステム | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-216439 | 積層ヒータとヒータ電圧入力との間の接続 | 2017年12月 7日 | |
| 特開 2017-216440 | 異なるヒータ配線材料を有する積層ヒータ | 2017年12月 7日 | |
| 特開 2017-216441 | 静電チャック接合のための永久二次浸食封じ込め | 2017年12月 7日 | |
| 特開 2017-216442 | 半導体製造において電気的非対称効果を用いてプラズマプロセス空間を制御するためのシステムおよび方法 | 2017年12月 7日 | |
| 特開 2017-216443 | 再配線層における均一性を実現するためのシステム及び方法 | 2017年12月 7日 | |
| 特表 2017-534174 | モノリシックガス分配マニホールドならびにその様々な構成技術および利用例 | 2017年11月16日 | |
| 特表 2017-533508 | 半導体ツールでの整備、メンテナンス、および追跡活動を支援するためのモバイルデバイスユーザインターフェース | 2017年11月 9日 | |
| 特表 2017-532788 | 調整可能ガスフロー制御のためのガス分離器を含むガス供給配送配置 | 2017年11月 2日 | |
| 特開 2017-199649 | 直流パルス式プラズマシステム | 2017年11月 2日 |
79 件中 1-15 件を表示
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2017-539075 2017-227892 2017-228526 2017-228791 2017-224601 2017-224816 2017-216439 2017-216440 2017-216441 2017-216442 2017-216443 2017-534174 2017-533508 2017-532788 2017-199649
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