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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6441434 | デュアルチャンバ構成のパルスプラズマチャンバ | 2018年12月19日 | |
特許 6433161 | フィールド対フィーチャのコントラストを用いたTSV浴評価 | 2018年12月 5日 | |
特許 6427316 | ウェハ基板上に金属を堆積するための電気めっき装置およびウェハ基板上に電気めっきする方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6420528 | 状態に基づいた電力および周波数の調整 | 2018年11月 7日 | |
特許 6412902 | プラズマシステム | 2018年10月24日 | |
特許 6407523 | 完全浸漬された無空気の帰還流量制御弁を用いた気泡および発泡解消方法 | 2018年10月17日 | |
特許 6404569 | プラズマインピーダンスに関連するパラメータのチューニング | 2018年10月10日 | |
特許 6404580 | 電力制御モードのためのチャンバマッチング | 2018年10月10日 | |
特許 6400272 | インピーダンスに基づいた電力および周波数の調整 | 2018年10月 3日 | |
特許 6388773 | めっき用の金属シード層を有する基板を準備してメッキする方法 | 2018年 9月12日 | |
特許 6385397 | プラズマ処理チャンバの下側電極アセンブリ | 2018年 9月 5日 | |
特許 6382719 | デュアルチャンバ構成のパルスプラズマチャンバ | 2018年 8月29日 | |
特許 6364244 | 温度制御された基板支持アセンブリ | 2018年 7月25日 | |
特許 6351669 | 加熱プレートおよびシステム | 2018年 7月 4日 | |
特許 6348725 | プラズマ処理装置の硬質脆性構成要素のための延性モード機械加工方法 | 2018年 6月27日 |
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6441434 6433161 6427316 6420528 6412902 6407523 6404569 6404580 6400272 6388773 6385397 6382719 6364244 6351669 6348725
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12月19日(木) - 東京 港区
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12月20日(金) - 大阪 大阪市
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12月20日(金) -
12月18日(水) -
12月24日(火) - 神奈川 川崎市
12月25日(水) -
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