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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6046623 | 静電デチャックを行う装置及び方法、並びに、半導体ウェハを処理するチャンバ | 2016年12月21日 | |
特許 6046628 | プラズマ発生装置 | 2016年12月21日 | |
特許 6049453 | 基板をデチャックする方法及びガス圧式リフト機構 | 2016年12月21日 | |
特許 6045574 | プラズマチャンバのための通電グリッド | 2016年12月14日 | |
特許 6038975 | 半導体基板を処理する方法 | 2016年12月 7日 | |
特許 6021809 | マルチゾーンプラズマ源、プラズマ生成方法、プラズマ処理システム | 2016年11月 9日 | |
特許 6019023 | プラズマ源、プラズマ生成方法、プラズマ処理システム | 2016年11月 2日 | |
特許 6019088 | 電源供給を局所化する分散型電源装置 | 2016年11月 2日 | |
特許 6005624 | 基板に対する粒子汚染を削減するためのシステム | 2016年10月12日 | |
特許 6001641 | 半導体処理のための電子ビーム強化式分離型プラズマ源 | 2016年10月 5日 | |
特許 5996760 | 加熱プレートおよび基板支持体 | 2016年 9月21日 | |
特許 5989644 | プラズマ源、プラズマを生成する方法、プラズマ処理システム、および、プラズマシステム | 2016年 9月 7日 | |
特許 5986503 | 固定用インサート、電極アセンブリおよびプラズマ処理チャンバー | 2016年 9月 6日 | |
特許 5982092 | 誘電体層の無電解メッキ用活性化溶液 | 2016年 8月31日 | |
特許 5982383 | ベベル保護膜成膜方法 | 2016年 8月31日 |
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6046623 6046628 6049453 6045574 6038975 6021809 6019023 6019088 6005624 6001641 5996760 5989644 5986503 5982092 5982383
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