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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第100位 332件
(2021年:第83位 467件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第71位 431件
(2021年:第72位 358件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7082097 | ガラス・オン・シリコン基板およびその製造方法 | 2022年 6月 7日 | |
特許 7082228 | リチウムイオン二次電池用負極活物質、リチウムイオン二次電池用混合負極活物質材料、リチウムイオン二次電池用負極、リチウムイオン二次電池、リチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法、リチウムイオン二次電池用負極の製造方法、及びリチウムイオン二次電池の製造方法 | 2022年 6月 7日 | |
特許 7080115 | 成膜装置及び成膜方法 | 2022年 6月 3日 | |
特許 7078947 | ダイヤモンド製膜用下地基板及びそれを用いたダイヤモンド基板の製造方法 | 2022年 6月 1日 | |
特許 7077774 | 活性エネルギー線硬化性組成物 | 2022年 5月31日 | |
特許 7077795 | エポキシ基含有イソシアヌル酸変性シリコーン樹脂、感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、積層体、及びパターン形成方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7077966 | アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7077997 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7078346 | 負極活物質及びリチウムイオン二次電池の製造方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7078581 | 積層構造体及び半導体装置並びに積層構造体の製造方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7078582 | 積層構造体、半導体装置及び結晶性酸化膜の成膜方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7078583 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7076400 | 熱伝導性シリコーン組成物、半導体装置及びその製造方法 | 2022年 5月27日 | |
特許 7075525 | 成膜装置、成膜基体の製造方法、半導体膜の製造装置及び半導体膜の製造方法 | 2022年 5月25日 | |
特許 7074093 | 剥離性シリコーンゲル組成物 | 2022年 5月24日 |
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7082097 7082228 7080115 7078947 7077774 7077795 7077966 7077997 7078346 7078581 7078582 7078583 7076400 7075525 7074093
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