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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第65位 311件
(2024年:第79位 375件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第64位 294件
(2024年:第78位 380件)
(ランキング更新日:2025年10月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7618401 | 大口径III族窒化物系エピタキシャル成長用基板とその製造方法 | 2025年 1月21日 | |
特許 7617819 | ペースト状シリコーン組成物、その製造方法及び化粧料 | 2025年 1月20日 | |
特許 7617831 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜の形成方法 | 2025年 1月20日 | |
特許 7617865 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、シリコーン硬化物及び光学デバイス | 2025年 1月20日 | |
特許 7615989 | アミン化合物、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2025年 1月17日 | |
特許 7616013 | レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2025年 1月17日 | |
特許 7616098 | 反射型マスクブランク及び反射型マスク | 2025年 1月17日 | |
特許 7616099 | 反射型マスクブランク及びその製造方法 | 2025年 1月17日 | |
特許 7616140 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2025年 1月17日 | |
特許 7616240 | 表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 | 2025年 1月17日 | |
特許 7614972 | 負極、リチウムイオン二次電池及びリチウムイオン二次電池の製造方法 | 2025年 1月16日 | |
特許 7614988 | 光ファイバ用ガラス母材を製造する製造方法、および、光ファイバ用ガラス母材を製造する装置 | 2025年 1月16日 | |
特許 7615184 | 酸化物半導体膜の電気抵抗率調整方法 | 2025年 1月16日 | |
特許 7615270 | 酸化物半導体膜の製造方法 | 2025年 1月16日 | |
特許 7613288 | フルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物及び表面処理剤組成物並びに物品、フルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物の合成方法 | 2025年 1月15日 |
301 件中 271-285 件を表示
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7618401 7617819 7617831 7617865 7615989 7616013 7616098 7616099 7616140 7616240 7614972 7614988 7615184 7615270 7613288
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