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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第63位 461件 (2023年:第72位 424件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第89位 341件 (2023年:第91位 347件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-51067 | 処理液除去方法、処理液除去装置、基板処理装置、基板処理方法 | 2024年 4月10日 | |
特開 2024-46797 | 熱処理装置 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-46836 | 分類方法およびコンピュータプログラム | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-46862 | 露光方法、データ処理方法および露光装置 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-46863 | 露光装置および露光方法 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-46870 | 露光装置および露光装置におけるビーム間隔計測方法 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-46880 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-46905 | マーク検出方法およびコンピュータプログラム | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-46993 | 支援装置、支援方法、基板処理システム、記録媒体、及び、支援プログラム | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47257 | 基板処理方法、基板処理装置及び基板処理液 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47290 | 基板処理装置及びブラシの洗浄方法 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47291 | 基板処理装置 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47292 | 基板処理装置 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47416 | 基板洗浄ブラシおよび基板洗浄装置 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47424 | 学習装置、学習方法および学習プログラムに関する。 | 2024年 4月 5日 |
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2024-51067 2024-46797 2024-46836 2024-46862 2024-46863 2024-46870 2024-46880 2024-46905 2024-46993 2024-47257 2024-47290 2024-47291 2024-47292 2024-47416 2024-47424
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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