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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1646位 13件
(2023年:第1071位 24件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第834位 28件
(2023年:第1298位 16件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7518325 | SiC基板の製造方法及びその製造装置 | 2024年 7月18日 | |
特許 7516716 | 発電システム | 2024年 7月17日 | |
特許 7515098 | 多環芳香族化合物およびその多量体 | 2024年 7月12日 | |
特許 7513231 | 発電システム | 2024年 7月 9日 | |
特許 7503786 | ヘテロ構造およびその作製方法 | 2024年 6月21日 | |
特許 7501871 | 口唇荒れの評価方法 | 2024年 6月18日 | |
特許 7477375 | シート化粧料の評価方法 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7471534 | 高温超電導線及び超電導コイル | 2024年 4月19日 | |
特許 7468857 | 多環芳香族化合物、有機デバイス用材料、有機EL素子、表示装置および照明装置 | 2024年 4月16日 | |
特許 7464806 | SiC半導体基板及びその製造方法及びその製造装置 | 2024年 4月10日 | |
特許 7464807 | SiC基板の製造方法及びその製造装置及びSiC基板のマクロステップバンチングを低減する方法 | 2024年 4月10日 | |
特許 7464808 | SiC基板の製造方法及びその製造装置及びSiC基板の加工変質層を低減する方法 | 2024年 4月10日 | |
特許 7457896 | 加工変質層の評価方法及び評価システム | 2024年 3月29日 | |
特許 7454810 | 多環芳香族化合物 | 2024年 3月25日 | |
特許 7445913 | 単一粒体分析用イムノセンサ及び単一粒体分析法 | 2024年 3月 8日 |
34 件中 16-30 件を表示
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7518325 7516716 7515098 7513231 7503786 7501871 7477375 7471534 7468857 7464806 7464807 7464808 7457896 7454810 7445913
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