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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第207位 254件 (2016年:第200位 217件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第227位 136件 (2016年:第268位 121件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-143290 | 可変型温度制御式基板支持アセンブリ | 2017年 8月17日 | |
特表 2017-522455 | 層を堆積する方法、トランジスタを製造する方法、電子デバイスのための層スタック、及び電子デバイス | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-522718 | ガス分配及び個別のポンピングを伴うバッチ硬化チャンバ | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-522726 | ロールツーロールウエハ裏側粒子及び汚染の除去 | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-522730 | 埋め込み式ファイバーオプティクス及びエポキシ光ディフューザーを使用した基板の温度制御のための装置、システム、並びに方法 | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-522733 | 化学機械研磨のための方法、システム、及び研磨パッド | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-522737 | 独立した分離されたヒータ区域を有するウエハキャリア | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-522738 | 基板移送ロボットエンドエフェクタ | 2017年 8月10日 | |
特開 2017-137564 | 低蒸気圧のエアゾールに支援されるCVD | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-521711 | 極紫外線キャッピング層、及び極紫外線キャッピング層の製造及びリソグラフィの方法 | 2017年 8月 3日 | |
特表 2017-521712 | アモルファス層を有する極紫外線反射素子、及びこれを製造する方法 | 2017年 8月 3日 | |
特表 2017-521713 | 薄い吸収体を有する極紫外線マスクブランク作製システム及びその製造システム | 2017年 8月 3日 | |
特表 2017-521866 | 堆積前の測定を伴う研磨 | 2017年 8月 3日 | |
特表 2017-521874 | 低圧熱処理のためのライトパイプ構造ウインドウ | 2017年 8月 3日 | |
特開 2017-133111 | 物理気相堆積チャンバターゲット用の冷却リング | 2017年 8月 3日 |
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2017-143290 2017-522455 2017-522718 2017-522726 2017-522730 2017-522733 2017-522737 2017-522738 2017-137564 2017-521711 2017-521712 2017-521713 2017-521866 2017-521874 2017-133111
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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