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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
(2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
(2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-547230 | 紫外線及びプラズマによる劣化に対して耐性を有するエラストマを製作するための方法及び材料 | 2024年12月27日 | |
特表 2024-546551 | 製造システムロボット用の静電エンドエフェクタ | 2024年12月26日 | |
特表 2024-547191 | 電極調整、堆積、及びエッチング方法 | 2024年12月26日 | |
特開 2024-178170 | 熱処理チャンバのエッジリング距離を測定する装置、システム、及び方法 | 2024年12月24日 | |
特開 2024-178182 | 底部パージガス流の均一性を改善するためのバッフルの実装 | 2024年12月24日 | |
特開 2024-178194 | 研磨液供給アームの洗浄システム | 2024年12月24日 | |
特開 2024-178200 | アルミニウム含有膜除去のためのシステム及び方法 | 2024年12月24日 | |
特開 2024-178337 | その場でのリアルタイムのプラズマチャンバ条件監視 | 2024年12月24日 | |
特開 2024-177098 | デジタル動的接続(ddc)機能を有するアプリオリアプリケーション | 2024年12月19日 | |
特表 2024-546133 | グロー放電と点灯を防止するための基板支持体の間隙ポンピング | 2024年12月17日 | |
特表 2024-546137 | プラズマチャンバにおける堅牢な発火及び再点火のための補助プラズマ源 | 2024年12月17日 | |
特開 2024-173935 | 低抵抗コンタクト相互接続のための方法および装置 | 2024年12月13日 | |
特開 2024-170384 | 単一基板洗浄チャンバを有するモジュール式研磨システムにおける基板ハンドリング | 2024年12月10日 | |
特開 2024-170385 | パルスPVD電力の波形形状係数 | 2024年12月10日 | |
特開 2024-170387 | 水平バフ研磨モジュール | 2024年12月10日 |
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2024-547230 2024-546551 2024-547191 2024-178170 2024-178182 2024-178194 2024-178200 2024-178337 2024-177098 2024-546133 2024-546137 2024-173935 2024-170384 2024-170385 2024-170387
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9月3日(水) -
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9月12日(金) -
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