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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第41位 605件 下降2023年:第32位 708件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第47位 555件 上昇2023年:第80位 398件)

(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-547230 紫外線及びプラズマによる劣化に対して耐性を有するエラストマを製作するための方法及び材料 2024年12月27日
特表 2024-546551 製造システムロボット用の静電エンドエフェクタ 2024年12月26日
特表 2024-547191 電極調整、堆積、及びエッチング方法 2024年12月26日
特開 2024-178170 熱処理チャンバのエッジリング距離を測定する装置、システム、及び方法 2024年12月24日
特開 2024-178182 底部パージガス流の均一性を改善するためのバッフルの実装 2024年12月24日
特開 2024-178194 研磨液供給アームの洗浄システム 2024年12月24日
特開 2024-178200 アルミニウム含有膜除去のためのシステム及び方法 2024年12月24日
特開 2024-178337 その場でのリアルタイムのプラズマチャンバ条件監視 2024年12月24日
特開 2024-177098 デジタル動的接続(ddc)機能を有するアプリオリアプリケーション 2024年12月19日
特表 2024-546133 グロー放電と点灯を防止するための基板支持体の間隙ポンピング 2024年12月17日
特表 2024-546137 プラズマチャンバにおける堅牢な発火及び再点火のための補助プラズマ源 2024年12月17日
特開 2024-173935 低抵抗コンタクト相互接続のための方法および装置 2024年12月13日
特開 2024-170384 単一基板洗浄チャンバを有するモジュール式研磨システムにおける基板ハンドリング 2024年12月10日
特開 2024-170385 パルスPVD電力の波形形状係数 2024年12月10日
特開 2024-170387 水平バフ研磨モジュール 2024年12月10日

606 件中 1-15 件を表示

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2024-547230 2024-546551 2024-547191 2024-178170 2024-178182 2024-178194 2024-178200 2024-178337 2024-177098 2024-546133 2024-546137 2024-173935 2024-170384 2024-170385 2024-170387

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