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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-518668	分離した裏側ヘリウム供給システム	2021年 8月 2日
特開 2021-107580	エルビウム系プラズマ耐性セラミックコーティングの見通し外堆積	2021年 7月29日
特開 2021-108372	マイクロデバイスの移動のためのシステム及び方法	2021年 7月29日
特開 2021-108378	周期的かつ選択的な材料の除去及びエッチングのための処理チャンバ	2021年 7月29日
特表 2021-517519	化学機械研磨装置における消耗部品モニタリング	2021年 7月26日
特開 2021-106154	簡易ランプ設計	2021年 7月26日
特開 2021-106272	選択的エッチング速度モニタ	2021年 7月26日
特開 2021-106273	電子デバイス製造用のロードポートの機器、システム、及び方法	2021年 7月26日
特表 2021-517073	化学機械研磨中の振動のモニタリング	2021年 7月15日
特表 2021-517074	パッドコンディショナカット速度監視	2021年 7月15日
特表 2021-517359	研磨のインシトゥモニタリングにおけるフィルタリング	2021年 7月15日
特表 2021-517360	半導体素子パッケージ製造プロセスための平坦化	2021年 7月15日
特表 2021-517363	パルスシステムの検証	2021年 7月15日
特開 2021-101041	付加製造における、層別加熱、ライン別加熱、プラズマ加熱、及び複数の供給材料	2021年 7月 8日
特開 2021-101470	エッチング及び選択的除去の向上のためのハードマスク膜の化学的修飾	2021年 7月 8日

313 件中 196-210 件を表示

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2021-518668 2021-107580 2021-108372 2021-108378 2021-517519 2021-106154 2021-106272 2021-106273 2021-517073 2021-517074 2021-517359 2021-517360 2021-517363 2021-101041 2021-101470

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